レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-343818
公開番号（公開出願番号）：特開2002-148788
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】高感度、高解像力を有し、PCDに優れ、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はX線レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物において、電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物が、ジスルホン化合物と特定のオニウムスルホン酸塩を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、及び(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物において、該(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物が(a1)ジスルホン化合物を少なくとも1種、並びに(a2)スルホニウムスルホン酸塩及びヨードニウムスルホン酸塩の群から選択されるオニウムスルホン酸塩を少なくとも1種含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , C08L 61/06 , C08L101/02 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , C08L 61/06 , C08L101/02 , G03F 7/038 601 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (44件)：

2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ04 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J002BC121 , 4J002BC122 , 4J002BE022 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG052 , 4J002BH021 , 4J002BH022 , 4J002CC031 , 4J002CC032 , 4J002EB127 , 4J002ED057 , 4J002EH008 , 4J002EH147 , 4J002EH158 , 4J002EJ068 , 4J002EJ069 , 4J002EL088 , 4J002EV078 , 4J002EV208 , 4J002EV216 , 4J002EV218 , 4J002EV257 , 4J002EV297 , 4J002EV307 , 4J002EV317 , 4J002FD149 , 4J002FD156 , 4J002FD157 , 4J002FD208 , 4J002GP03

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