特許
J-GLOBAL ID：200903018638830916
置換めっき浴の寿命を延長させる方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-316887
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222540
出願日： 1992年11月26日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】錯体を定期的に除去し、メッキ浴を安定化し、その使用寿命を延長させる方法の提供。【構成】スズめっき液は飽和に達する前に貯蔵槽から取り出し、選択的にチオ尿素錯体を沈殿させ、そして残りの溶液を貯蔵槽に戻すことにより安定化させる。沈殿した銅-チオ尿素錯体は酸に再溶解し、そして慣用の廃棄物処理により廃棄するか、またはその酸溶液を電解採取して銅を再生し、かつチオ尿素を酸化して廃棄物処理のためのより許容されうる酸溶液を生成することができる。好ましくは、チオ尿素は電解採取中に陽極から単離され、その結果生成した酸チオ尿素溶液は貯蔵槽中のスズめっき液を部分的に補充するために用いる。
請求項（抜粋）：
次の工程:(a)(i) その最低の酸化状態で存在する遊離金属の金属イオン、前記遊離金属は基板表面の金属とは異なる;(ii) 錯生成剤;および(iii) 酸からなるめっき水溶液の貯蔵槽を用意し、(b) めっき水溶液を基板金属表面上に塗布し、それにより(i)の金属イオンの一部がより高い酸化状態のイオンに酸化され、そして(i)の金属イオンの他の部分が遊離金属に還元され、その還元遊離金属が表面基板金属と置換し、それはイオンに酸化され、錯生成剤と錯体化して基板金属の表面において反応した置換めっき水溶液に溶解した基板イオン錯体を生成し、そして(c) めっき液を貯蔵槽に戻すことからなり、めっき水溶液の貯蔵槽がその最低の酸化状態で存在する金属イオンの遊離金属(i)である遊離金属(iv)を含有し、それによりそのより高い酸化状態で存在する金属イオンの少なくとも一部が遊離金属(i)と反応してその最低の酸化状態で存在する金属イオンを生成してめっき水溶液を補充することを特徴とする、基板金属表面を他の金属で置換めっきする方法。
IPC (3件)：
C23C 18/31
, H05K 3/24
, H05K 3/46
