特許
J-GLOBAL ID：200903018645203110
マスク保護装置付きマスクとその製造方法及び該マスク による露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 晃一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-227835
公開番号（公開出願番号）：特開平9-073167
出願日： 1995年09月05日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：
【要約】【目 的】 酸素含有率が1vol %以下のガス雰囲気下で、波長100〜220nmの短波長の露光光を用いても、マスク保護装置の薄膜が劣化して透過率が変化したり、凹んだりすることのないマスク保護装置付きマスクを提供する。【構 成】 酸素含有率が1vol %以下のガス雰囲気下で、マスク保護装置をマスク3に取付け、マスク保護装置とマスクで囲まれる空間に酸素含有率が1vol%以下のガスを封入する。これにより短波長の露光光による露光時に上記空間内に含まれる酸素がオゾン化して薄膜を劣化させるのを防ぐと共に、酸素含有率が1vol %以下のガス雰囲気下でもマスク保護装置付きマスクの内外で酸素濃度勾配が生じないようにして酸素の移動を防ぐ。
請求項（抜粋）：
枠と、枠の一側面に張設される薄膜とよりなるマスク保護装置をマスク上にマスクパターンを囲うようにして接着してなり、ウェハへの露光光源として波長100〜220nmの短波長の露光光が使用されるフォトリソグラフィ工程において用いるマスク保護装置付きのマスクであって、マスク保護装置とマスクによって囲まれた空間に酸素含有率が1vol %以下のガスが封入されていることを特徴とするマスク保護装置付きマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 J
, H01L 21/30 503 E
