特許

J-GLOBAL ID：200903018658459327

フォトマスク及びその製造方法

発明者： 松浦 誠司
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 中澤 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-232414
公開番号（公開出願番号）：特開2000-066366
出願日： 1998年08月19日
公開日（公表日）： 2000年03月03日
要約：

【要約】【課題】微細なホールパターンを寸法のばらつきがなく、精度よく形成することができるフォトマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明のフォトマスク1は、露光により微細なホールパターンを形成するための円形のマスクパターン2を備えている。

請求項（抜粋）：

露光により微細なホールパターンを形成するための円形のマスクパターンを備えていることを特徴とするフォトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 D ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

Fターム (4件)：

2H095BB02 ,  2H095BB10 ,  2H095BC01 ,  5F046AA25

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-067613
  
• 特開平2-001848
  
• 特開平3-015065