特許
J-GLOBAL ID：200903018663486553
反射干渉色膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-178797
公開番号（公開出願番号）：特開平11-029855
出願日： 1997年05月30日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：
【要約】【課題】 真空成膜法において、装飾的に利用されるような、多色の反射干渉色膜を同時に、且つ、安価に製造する方法を提供することにある。【解決手段】 真空成膜法による反射干渉色膜の製造方法において、図1に示す膜厚分布作成マスク2が(1)被膜基材1の表面から適当な距離を隔て、開口部を有している。(2)被膜基材1に接する部分が、上記開口部よりも広い開口面積を有している。(3)一つの被膜基材に対して、複数個の開口部が設けられている。ように構成され、あるいは、図2に示すように、膜厚分布作成マスク2と被膜基材1との間に、膜厚分布作成マスク2の開口部よりも狭い、開口部を有するパターンマスク3を同時に使用して反射干渉色膜を製造する。
請求項（抜粋）：
真空成膜法による反射干渉色膜の製造方法において、図1に示す膜厚分布作成マスク2が(1)被膜基材1の表面より適当な間隔を持って開口部を有している。(2)被膜基材1に接する部分が、上記、開口部よりも広い開口面積を有している。(3)一つの被膜基材に対して、複数個の開口部が設けられている。ように構成され、その膜厚分布作成マスク2を使用して反射干渉色膜を製造することを特徴とした膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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