特許

J-GLOBAL ID：200903018670266356

インクジェット方式により層間絶縁膜を形成するための組成物

発明者： 蓑輪 貴樹 ,  丹羽 一明
出願人/特許権者： JSR株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-113852
公開番号（公開出願番号）：特開2003-307847
出願日： 2002年04月16日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】 密着性、表面硬度、透明性、耐熱性、耐光性、耐溶剤性などの層間絶縁膜として要求される諸性能を満たすとともに、低コストのインクジェット方式により層間絶縁膜を形成するための組成物を提供すること。【解決手段】 本発明の組成物は、(A)(a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物、ならびに(a3)その他のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、(B)1,2-キノンジアジド化合物、ならびに(C)常圧における沸点が180°C以上の溶媒を含有する。

請求項（抜粋）：

(A)(a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物、ならびに(a3)その他のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、(B)1,2-キノンジアジド化合物、ならびに(C)常圧における沸点が180°C以上の溶媒を含有することを特徴とする、インクジェット方式により層間絶縁膜を形成するための組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/023 ,  G02F 1/1368 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/16 501

FI (4件)：

G03F 7/023 ,  G02F 1/1368 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/16 501

Fターム (23件)：

2H025AA06 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AA18 ,  2H025AA20 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CC03 ,  2H025EA04 ,  2H025FA17 ,  2H092HA28 ,  2H092KB25 ,  2H092MA10 ,  2H092NA18