特許
J-GLOBAL ID：200903018671567171
位相シフトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-125365
公開番号（公開出願番号）：特開平6-027633
出願日： 1991年04月26日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】本発明は孤立パターン及び島状パターンの両方に位相シフト技術の利点を生かすことができる位相シフトマスクに関する。【構成】遮光部を設けた透明基板1上の第一の開口部22に隣接して設けた第二の開口部22a,・・・が特定の光透過率を有する位相シフト部21a,・・・を有するように構成されていることによって孤立パターンの解像度が向上した。また透明基板上の開口部の遮光部の周辺部に特定の光透過率を有する位相シフト部を設けるか、または遮光部を前記特定の光透過率を有する位相シフト部で形成することによって島状パターンにも位相シフト技術の利点を効果的に発揮させるようにした。
請求項（抜粋）：
透明基板上に透過する光の位相を入射光の位相に対して変化させる材料により位相シフト部を形成してなる位相シフトマスクにおいて、該位相シフト部の光透過率が特定の光透過率であることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
