特許
J-GLOBAL ID：200903018674324032
光学反射素子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-151307
公開番号（公開出願番号）：特開平5-323109
出願日： 1992年05月19日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：
【要約】【目的】 薄型化に対応でき、かつ生産コストが低減される光学反射素子を得る。【構成】 表面が熱処理されて酸化層13が形成されたシリコン基板12と、酸化層13の表面に蒸着されるなどして形成された高反射率の金属皮膜14と、前記金属皮膜14上に形成された酸化防止皮膜15とから光学反射素子11が形成されている。シリコン基板12を使用することにより、厚さを薄くしても剛性が保たれる。また、シリコン基板12の表面に酸化層13を形成することにより、金属皮膜14が蒸着などにより密着されやすくなる。
請求項（抜粋）：
シリコン基板と、この基板表面を熱処理して形成した酸化層と、この酸化層上に成膜された光反射層とから成ることを特徴とする光学反射素子。
IPC (2件)：
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