特許

J-GLOBAL ID：200903018676748263

投影露光方法および装置

発明者： 鈴木 広介
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 森岡 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-117922
公開番号（公開出願番号）：特開平11-274070
出願日： 1998年03月19日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】走査露光中にレチクルとウェハの同期精度に悪影響を与えず、且つ投影光学系のレンズ群の駆動による光学的あるいは機械的な問題を生じずに焦点位置合わせ動作が行える投影露光方法および装置を提供することを目的とする。【解決手段】非露光時はZステージ19だけを光軸AX方向に移動させて、ウェハ18と投影光学系14の結像面との焦点位置合わせを行い、投影光学系14の結像性能補正部16での焦点位置補正は行わない。露光が始まると、Zステージ19を固定して結像性能補正部16だけで焦点位置合わせ動作を行う。次に露光が終了したら結像性能補正部16で補正していた焦点位置の位置情報をZステージ19側に受け渡し、受け渡された焦点位置情報に基づいてZステージ19を所定量Z方向に移動させると共に、結像性能補正部16内の各レンズ群をリセット位置まで戻すようにする。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたレチクルと感光基板とを同期して移動させ、前記パターンの像を投影光学系を介して前記感光基板に露光する投影露光方法において、前記投影光学系の結像面に対する前記感光基板表面のずれ量を計測する焦点検出ステップと、前記ずれ量に基づいて、前記投影光学系の結像特性を変化させて、前記投影光学系の結像面を前記感光基板表面に一致させる第1の焦点位置合わせステップと、前記ずれ量に基づいて、前記感光基板を前記投影光学系の光軸方向に移動させて、前記投影光学系の結像面に前記感光基板表面を一致させる第2の焦点位置合わせステップと、前記パターンの像を前記感光基板に露光する露光時と、前記パターンの像を前記感光基板に露光しない非露光時とに基づいて、前記第1の焦点位置合わせステップと、前記第2の焦点位置合わせステップとを切り替える切り替えステップとを有することを特徴とする投影露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/02

FI (5件)：

H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/22 H ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 526 A