特許

J-GLOBAL ID：200903018676839811

疎水性アルミナ

発明者： 中村 章宏 ,  西原 明
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 松井 政広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-334113
公開番号（公開出願番号）：特開平5-139726
出願日： 1991年11月24日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】R1-(X)p-(CH2CH2O)q(CH2)mSiR2 3-nR3n (1)[式(1)中、R1はC1〜10のフッ素置換アルキル基;XはSO2NR4(R4は水素またはC1〜5のアルキル基);CONR4,CO2またはCH2O;R2はC1〜5のアルキル基;R3はCl,BrまたはC1〜5のアルコキシ基;pは0または1;qは0から10;mは1から5の整数;nは1から3の整数。]で示される化合物と;-(SiMe2O)a(SiR5R6O)b- (2)[式(2)中、R5、R6は同時にメチル基でなく、aが0のとき同時に水素ではない有機基。)aは0または正整数、bは正整数。]で示されるオルガノポリシロキサンによって処理され、鉄に対する摩擦帯電量0μC/gから-40μC/g、メタノール滴定試験による疎水化度が50以上のアルミナ(Al2O3)粉体。【効果】 疎水性アルミナ粒子は、静電記録において現像剤に添加する流動性改善剤など、摩擦帯電が問題となる応用場面において極めて有用である。

請求項（抜粋）：

一般式(1):R1-(X)p-(CH2CH2O)q(CH2)mSiR2 3-nR3n[式中それぞれ、R1は炭素数1から10のフッ素置換アルキル基;XはSO2NR4(但しR4は水素または炭素数1から5のアルキル基);CONR4,CO2またはCH2Oより選ばれる2価の置換基;R2は炭素数1から5のアルキル基;R3はCl,Brまたは炭素数1から5のアルコキシ基;pは0または1の整数;qは0から10の整数;mは1から5の整数( 但しp,qが同時に0の場合は、mは2から5の整数);nは1から3の整数を表す。]で示されるフッ素置換シラン化合物と;一般式(2):-(SiMe2O)a(SiR5R6O)b-[式中、R5、R6は、有機置換基およびハイドロジェン基より選ばれる同一または異なる置換基を表わす(但し、R5、R6は、同時にメチル基であってはならず、aが0である場合には同時にハイドロジェン基であってはならない)。また、aは0または正整数、bは正整数を表す]で示されるオルガノポリシロキサンによって処理され、鉄に対する摩擦帯電量が0μC/gから-40μC/gの範囲にあり、かつメタノール滴定試験によって測定された疎水化度が50以上の値を示すアルミナ(Al2O3)粉体。

IPC (3件)：

C01F 7/02 ,  C09C 1/40 PBC ,  C09K 3/16 109