特許
J-GLOBAL ID:200903018684266979
放射線像燐光体又はシンチレータパネル
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
風早 信昭
, 浅野 典子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-108591
公開番号(公開出願番号):特開2007-292755
出願日: 2007年04月17日
公開日(公表日): 2007年11月08日
要約:
【課題】 放射線像燐光体又はシンチレータパネルにおいて支持体層と貯蔵燐光体又はシンチレータ層の間の許容可能な接着性及び低い腐食性を達成する。【解決手段】 陽極酸化層を有するアルミニウム層であってクロムが前記アルミニウム層及び/又は前記陽極酸化層に存在するもの、及び保護被覆でカバーされた、上部に針状燐光体又はシンチレータ結晶を含む蒸着燐光体又はシンチレータ層を連続層の層配置として含む放射線像燐光体又はシンチレータパネルにおいて、前記陽極酸化層が少なくとも0.001の陽極酸化層厚さtに対する平均表面粗さRaの比率を有し、Raが0.01μmから0.30μm未満の範囲にあり、前記陽極酸化層が1μmから10μmまでの範囲の厚さを有することを特徴とする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
陽極酸化層を有するアルミニウム支持体であってクロムが前記アルミニウム層及び/又は前記陽極酸化層に存在するもの、及び保護被覆でカバーされた、上部に針状燐光体又はシンチレータ結晶を含む蒸着燐光体又はシンチレータ層を連続層の層配置として含む放射線像燐光体又はシンチレータパネルにおいて、前記陽極酸化層が少なくとも0.001の陽極酸化層厚さtに対する平均表面粗さRaの比率を有し、Raが0.01μmから0.30μm未満までの範囲にあり、前記陽極酸化層が1μmから10μmまでの範囲の厚さを有することを特徴とする放射線像燐光体又はシンチレータパネル。
IPC (3件):
G21K 4/00
, C09K 11/00
, C09K 11/61
FI (3件):
G21K4/00 N
, C09K11/00 E
, C09K11/61
Fターム (15件):
2G083AA03
, 2G083BB01
, 2G083CC03
, 2G083CC04
, 2G083CC08
, 2G083DD02
, 2G083DD11
, 2G083DD17
, 2G083EE07
, 2G083EE08
, 4H001CA02
, 4H001CA08
, 4H001XA35
, 4H001XA55
, 4H001YA63
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