特許
J-GLOBAL ID：200903018706800559
真空成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-287966
公開番号（公開出願番号）：特開2003-096564
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：
【要約】【課題】 モニタガラス13を基板支持用のドーム5と共に真空槽1内に搬入して、基板の成膜時に基板と同等の条件でモニタガラス13に成膜し、そのモニタガラス13に検知光L1を照射して基板の成膜状態をモニタする場合において、モニタガラス13と、そのモニタガラス13を覆いかつモニタ成膜部13aを成膜させる開口44を有するマスク42とを安定して近接配置し、成膜時にモニタガラス13に広がってぼけない明瞭なモニタ成膜部13aを成膜させ、またホルダ8のドーム5に対する位置決めを不要とする。【解決手段】 モニタガラス13を、ドーム5に昇降可能に載置支持される筒状ホルダ8の底部に設け、真空槽1内の上部に、ホルダ8上部の当接面11との当接によりモニタガラス13をモニタ位置に位置決めするホルダ受部27を設け、マスク昇降機構47により、ホルダ8上部の当接面11がホルダ受部27に当接するようにマスク42を上昇させてホルダ8の下部に押し付け、その状態で基板の成膜を行う。
請求項（抜粋）：
モニタガラスを基板支持用の治具と共に真空槽内に搬入して基板と同等の条件で成膜されるモニタ位置に配置し、基板の成膜時にモニタ位置のモニタガラスに検知光を照射して基板の成膜状態をモニタするようにした真空成膜装置において、上記モニタガラスは、上記治具に昇降可能に載置支持される筒状ホルダの底部に設けられており、真空槽内の上部に配置され、上記ホルダの上部が当接したときにモニタガラスを上記モニタ位置に位置決めするホルダ受部と、上記ホルダの底部に当接可能に設けられ、成膜物質を通過させてモニタガラスにモニタ成膜部を成膜させる開口を有し、該開口以外の部分で上記モニタガラスを覆うマスクと、上記ホルダの上部がホルダ受部に当接するように上記マスクを上昇させてホルダの下部に押し付けるマスク昇降機構とを備えたことを特徴とする真空成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/54 E
, B01J 19/00 L
4G075AA24
, 4G075AA65
, 4G075BC01
, 4G075CA65
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EB32
, 4G075ED08
, 4G075ED20
, 4G075EE02
, 4G075FB06
, 4G075FC17
, 4K029EA01
, 4K029HA01
, 4K029HA04
, 4K029JA02
