特許
J-GLOBAL ID：200903018713116647
ポジ型レジスト溶液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-072120
公開番号（公開出願番号）：特開平7-281429
出願日： 1994年04月11日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【構成】 本発明のポジ型レジスト溶液は、アルカリ可溶性樹脂、1,2-キノンジアジド化合物及びβ-メトキシイソ酪酸メチルを含む溶剤を含有してなる。【効果】 本発明のポジ型レジスト溶液は、特に大口径化された基板へスピンコート法で塗布することにより均一な厚みのレジスト被膜を形成することができる。形成されたレジスト被膜は感度、解像度等に優れる。
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)1,2-キノンジアジド化合物、および(c)β-メトキシイソ酪酸メチルを含む溶剤を含有してなることを特徴とするポジ型レジスト溶液。
IPC (2件)：
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