特許
J-GLOBAL ID：200903018714270836
シリカ被覆酸化亜鉛微粒子の製造方法と、その方法で得られたシリカ被覆酸化亜鉛微粒子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平山 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-127324
公開番号（公開出願番号）：特開2008-280465
出願日： 2007年05月11日
公開日（公表日）： 2008年11月20日
要約：
【課題】 紫外線吸収作用の保持と光触媒機能の抑制とが可能なシリカ被覆酸化亜鉛微粒子を得る方法を提供する。【解決手段】 解砕された酸化亜鉛微の二次粒子、テトラエトキシシラン、エタノール、アンモニア水溶液及び水とを混合し懸濁液を得る混合工程と、前記混合工程で得られた懸濁液を攪拌しつつ、エタノールの気化温度を越えない範囲で急速に高温にすると共にその後、紫外線吸収作用が保持され且つ光触媒機能の抑制が可能となる厚みのシリカ薄膜が酸化亜鉛ナノ粒子の表面に形成されるまで当該高温を維持するよう該懸濁液にマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程とから成り、均一なシリカの膜が形成されることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
解砕された酸化亜鉛のナノ粒子、テトラエトキシシラン、エタノール、アンモニア水溶液及び水とを混合し懸濁液を得る混合工程と、前記混合工程で得られた懸濁液を攪拌しつつ、エタノールの気化温度を越えない範囲で急速に高温にすると共にその後、紫外線吸収作用が保持され且つ光触媒機能の抑制が可能となる厚みのシリカ薄膜が酸化亜鉛ナノ粒子の表面に形成されるまで当該高温を維持するよう該懸濁液にマイクロ波を照射するマイクロ波照射工程とから成り、均一なシリカの膜が形成されることを特徴とするシリカ被覆酸化亜鉛微粒子の製造方法。
IPC (4件)：
C09C 1/04
, C01G 9/02
, C09C 3/06
, C09C 3/12
C09C1/04
, C01G9/02 A
, C09C3/06
, C09C3/12
4G047AA02
, 4G047AB04
, 4G047AC02
, 4G047AD03
, 4J037AA11
, 4J037CB23
, 4J037EE03
, 4J037EE12
, 4J037EE24
, 4J037EE43
, 4J037EE47
, 4J037FF30
出願人引用 (3件)
審査官引用 (7件)
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