特許
J-GLOBAL ID：200903018735547277
新規なマイクロパターン偏光素子
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
佐伯 憲生
, 佐伯 憲生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-284827
公開番号（公開出願番号）：特開2001-159713
出願日： 2000年09月20日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】貼合のような極めて高い位置決め精度を必要とせず、二色性色素化合物の部分的配向に優れているマイクロパターン偏光素子及びその製造方法を確立すること。【解決手段】直線偏光を照射した光活性基を有する液晶性高分子薄膜層に二色性分子をマイクロパターン状に配列させてえられる偏光素子光活性基を有する液晶性高分子化合物は、直線偏光照射により光活性基の分子軸配向変化を起こす液晶性高分子のことである。ここで言う分子軸配向変化とは、直線偏光の光エネルギーを吸収した後に、その分子軸の方向がその直線偏光に応じて一定方向に変わる現象を意味する。
請求項（抜粋）：
基板上に光活性基を有する液晶性高分子薄膜層及び該液晶性高分子薄膜層に接した二色性分子を含む層を有し二色性分子がマイクロパターン状に配列されている偏光素子。
IPC (3件)：
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
, G02F 1/13363
G02B 5/30
, G02F 1/1335 510
, G02F 1/13363
