特許
J-GLOBAL ID：200903018738211458
イオンビームの電荷中和方法および装置ならびにドライプロセス装置および表面計測装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-288573
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129096
出願日： 1991年11月05日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】イオンビームの電荷の中和する割合を高め、しかも電荷の中和を行なう部分以外へのガスの拡散を避け、装置の大型化を防ぐ。【構成】イオン源5から発生するイオンビームと分子ビームノズル7から噴出する分子ビームとを交差させることで、イオンビームの電荷を中和する。【効果】分子ビーム内の圧力は高いから、イオンビームの電荷の中和の確率を高く保つことができ、しかもイオンビーム源などへのガスの拡散を防ぐことができるので、電荷の中和を行なう部分以外へのガスの拡散を避けることができ、また極めて狭い領域内で電荷の中和を行なうことができるから、装置の小型化を図ることができる。
請求項（抜粋）：
イオンビームの電荷を中和する方法において、上記イオンビームを分子ビームと交差させることを特徴とするイオンビームの電荷中和方法。
IPC (2件)：
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