特許

J-GLOBAL ID：200903018752292355

化合物、共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物とこれを利用したフォトレジストパタ-ン形成方法、および半導体素子

発明者： 鄭 ▲みん▼鎬
出願人/特許権者： 現代電子産業株式会社
代理人 (1件)： 荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-374660
公開番号（公開出願番号）：特開平11-279227
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 KrF(248nm)、或いはArF(193nm)光源を利用するリソグラフィ工程(lithography)に好適なフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 下記式(2)で表される化合物を重合して得られる共重合体を含むフォトレジスト組成物である。【化1】前記式で、R1は水素、又は1〜10の炭素数を有する置換、又は非置換された直鎖又は側鎖アルキル、シクロアルキル、アルコキシアルキル、又はシクロアルコキシアルキルであり、R2は水素、又はメチル基である。

請求項（抜粋）：

下記式(2)で表されることを特徴とする化合物。【化1】前記式で、R1は水素、又は1〜10の炭素数を有する置換、又は非置換された直鎖又は側鎖アルキル、シクロアルキル、アルコキシアルキル、又はシクロアルコキシアルキルであり、R2は水素、又はメチル基である。

IPC (5件)：

C08F 20/18 ,  C07C 69/608 ,  C07J 63/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C08F 20/18 ,  C07C 69/608 ,  C07J 63/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-033958   出願人：富士写真フイルム株式会社