特許

J-GLOBAL ID：200903018758761098

反射型マスクブランクス及び反射型マスク

発明者： 細谷 守男 ,  木下 健 ,  笑喜 勉
出願人/特許権者： HOYA株式会社
代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-138250
公開番号（公開出願番号）：特開2004-342867
出願日： 2003年05月16日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

【課題】エッチング残渣があった場合でも反射率低下が少なく、且つ、他層との関係の最適化が可能なバッファー層を備えた反射型マスクブランクス及び反射型マスクを提供する。【解決手段】基板1上に、露光光を反射する反射多層膜2と、露光光を吸収する吸収体層4とを備え、反射多層膜2と吸収体層4との間に、吸収体層4にパターンを形成する際に反射多層膜2を保護するためのバッファー層3を備え、該バッファー層3は、その反射多層膜2に隣接する領域近傍では、バッファー層3の他の部分と比較して、複素屈折率の虚数部の絶対値が小さくなっている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板と、該基板上に設けられた露光光を反射する反射多層膜と、該反射多層膜上に設けられた露光光を吸収する吸収体層とを有する反射型マスクブランクスであって、 前記反射多層膜と吸収体層の間に、吸収体層に所定のパターンを形成する際のエッチング環境に耐性を有するバッファー層を有しており、該バッファー層を構成する材料は、その膜厚方向で、露光光の波長における複素屈折率の虚数部の値が異なっており、該バッファー層の反射多層膜に隣接する領域近傍は、バッファー層の他の部分と比較して、複素屈折率の虚数部の絶対値が小さくなっていることを特徴とする反射型マスクブランクス。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G03F1/14 ,  G03F1/16

FI (3件)：

H01L21/30 531M ,  G03F1/14 A ,  G03F1/16 A

Fターム (8件)：

2H095BA01 ,  2H095BA10 ,  2H095BC26 ,  5F046GD01 ,  5F046GD04 ,  5F046GD10 ,  5F046GD11 ,  5F046GD16