特許
J-GLOBAL ID:200903018761447302
ハードコート基材の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-107773
公開番号(公開出願番号):特開2000-234073
出願日: 1999年04月15日
公開日(公表日): 2000年08月29日
要約:
【要約】【課題】 厚みが小さくとも耐擦傷性が大きく低下していないハードコート層を有するハードコート基材を製造する方法を提供する。【解決手段】 基材の表面に形成された、活性化エネルギー線硬化性化合物および該活性化エネルギー線硬化性化合物100重量部あたり0.1〜15重量部のシリコーンオイルを含有する層に、活性化エネルギー線を照射することを特徴とする厚みが3μm以下のハードコート層を有するハードコート基材の製造方法。
請求項(抜粋):
基材の表面に形成された、活性化エネルギー線硬化性化合物および該活性化エネルギー線硬化性化合物100重量部あたり0.1〜15重量部のシリコーンオイルを含有する層に、活性化エネルギー線を照射することを特徴とする厚みが3μm以下のハードコート層を有するハードコート基材の製造方法。
IPC (4件):
C09D 7/12
, B05D 7/24 301
, C09D 5/00
, C09D201/00
FI (4件):
C09D 7/12 A
, B05D 7/24 301 T
, C09D 5/00 C
, C09D201/00
Fターム (8件):
4D075CA02
, 4D075EA21
, 4D075EB42
, 4J038DL032
, 4J038FA011
, 4J038NA11
, 4J038PA17
, 4J038PC08
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