特許
J-GLOBAL ID:200903018761447302

ハードコート基材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-107773
公開番号(公開出願番号):特開2000-234073
出願日: 1999年04月15日
公開日(公表日): 2000年08月29日
要約:
【要約】【課題】 厚みが小さくとも耐擦傷性が大きく低下していないハードコート層を有するハードコート基材を製造する方法を提供する。【解決手段】 基材の表面に形成された、活性化エネルギー線硬化性化合物および該活性化エネルギー線硬化性化合物100重量部あたり0.1〜15重量部のシリコーンオイルを含有する層に、活性化エネルギー線を照射することを特徴とする厚みが3μm以下のハードコート層を有するハードコート基材の製造方法。
請求項(抜粋):
基材の表面に形成された、活性化エネルギー線硬化性化合物および該活性化エネルギー線硬化性化合物100重量部あたり0.1〜15重量部のシリコーンオイルを含有する層に、活性化エネルギー線を照射することを特徴とする厚みが3μm以下のハードコート層を有するハードコート基材の製造方法。
IPC (4件):
C09D 7/12 ,  B05D 7/24 301 ,  C09D 5/00 ,  C09D201/00
FI (4件):
C09D 7/12 A ,  B05D 7/24 301 T ,  C09D 5/00 C ,  C09D201/00
Fターム (8件):
4D075CA02 ,  4D075EA21 ,  4D075EB42 ,  4J038DL032 ,  4J038FA011 ,  4J038NA11 ,  4J038PA17 ,  4J038PC08

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