特許

J-GLOBAL ID：200903018774994094

放電プラズマ処理装置

発明者： 中武 純夫
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-366608
公開番号（公開出願番号）：特開2003-166062
出願日： 2001年11月30日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：

【要約】【課題】 高速処理及び大面積処理に対応可能でかつ、電極表面を容易にクリーニングできる放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 少なくとも一方の対向面を固体誘電体で被覆した、少なくとも一対の回転電極からなる電極間に処理ガスを導入して電界を印加することにより発生するグロー放電プラズマで被処理基材を処理する放電プラズマ処理装置であって、各回転電極の放電面と反対側の面を洗浄剤で洗浄する電極表面のクリーニング機構が設けられていることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

少なくとも一方の対向面を固体誘電体で被覆した、少なくとも一対の回転電極からなる電極間に処理ガスを導入して電界を印加することにより発生するグロー放電プラズマで被処理基材を処理する放電プラズマ処理装置であって、各回転電極の放電面と反対側の面を洗浄剤で洗浄する電極表面のクリーニング機構が設けられていることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/24

FI (3件)：

C23C 16/44 J ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/302 N

Fターム (14件)：

4K030AA04 ,  4K030DA06 ,  4K030EA13 ,  4K030FA03 ,  4K030JA11 ,  4K030JA16 ,  4K030KA15 ,  5F004AA13 ,  5F004AA15 ,  5F004BA20 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA07 ,  5F004DA18