特許
J-GLOBAL ID：200903018779933123

表示装置の作製方法

発明者：
山下 晃央

山下 晃央 について

, 
福本 由美子

福本 由美子 について

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後藤 裕吾

後藤 裕吾 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体エネルギー研究所

株式会社半導体エネルギー研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-341712
公開番号（公開出願番号）：特開2005-183374
出願日： 2004年11月26日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】本発明では、耐衝撃性が高い表示装置を歩留まり高く作製する方法、即ちプラスチック基板を用いて形成される光学フィルムを有する表示装置の作製方法を提供する。【解決手段】 本発明は、第1の基板上に金属層、酸化物層、及び光学フィルターを積層する工程と、前記第1の基板から光学フィルターを剥離する工程と、前記光学フィルターを第2の基板に接着する工程と、第3の基板上に画素を有する層を形成する工程と、前記画素を有する層及び前記光学フィルターを接着する工程とを有する表示装置の作製方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1の基板に、第1の金属膜と、第1の酸化物膜と、光学フィルターとを順に積層し、前記光学フィルターを介して前記第1の基板と向かい合うように、前記光学フィルター上に第1の支持体を第1の剥離可能な粘着媒体を用いて貼り合わせ、 前記第1の金属膜と前記第1の酸化物膜との間において物理的手段により剥離する第1の工程と、 第2の基板上に画素を有する層を形成する第2の工程と、 前記第1の工程及び第2の工程の後、前記第1の酸化物膜と前記第2の基板の画素を有する層の表面とを第1の接着剤を用いて貼り合わせ、前記第1の剥離可能な粘着媒体及び前記第1の支持体を除去する第3の工程とを有することを特徴とする表示装置の作製方法。
IPC (4件)：
H05B33/10 ,  G02F1/1335 ,  G09F9/00 ,  H05B33/14
FI (4件)：
H05B33/10 ,  G02F1/1335 505 ,  G09F9/00 338 ,  H05B33/14 A
Fターム (29件)：
2H091FA02Y ,  2H091FC02 ,  2H091FC23 ,  2H091FD15 ,  2H091GA01 ,  2H091GA11 ,  2H091GA13 ,  2H091GA17 ,  2H091HA06 ,  2H091HA07 ,  2H091HA10 ,  2H091KA10 ,  2H091LA02 ,  2H091LA11 ,  2H091LA12 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA07 ,  3K007BB06 ,  3K007CA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435GG01 ,  5G435HH18 ,  5G435KK05
引用特許：
出願人引用 (7件)
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