特許

J-GLOBAL ID：200903018797552676

薄膜製造装置

発明者： 中村 孝則 ,  安藤 陽 ,  竹島 裕 ,  伴野 国三郎
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
代理人 (1件)： 西澤 均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-102312
公開番号（公開出願番号）：特開平7-278817
出願日： 1994年04月14日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：

【要約】【目的】 膜の組成制御を容易に行うことが可能であるとともに、短時間に効率よく成膜を行うことが可能な薄膜製造装置を提供する。【構成】 超音波霧化器1により原料液体または原料を含む溶液を霧化させ、これを気化器2において気化させた後、成膜室3に供給する。

請求項（抜粋）：

多成分系の薄膜を製造するための装置であって、原料液体または原料を含む溶液を霧化させる超音波霧化器と、霧化した原料液体または原料を含む溶液を気化させる気化器と、前記気化器により気化させた原料を含有する気体から膜成分を基体上に析出、堆積させる反応器とを具備することを特徴とする薄膜製造装置。