特許

J-GLOBAL ID：200903018812574355

セラミックコーティング用の前駆体及びその製造方法

発明者： ローレン アンドリュー ハルスカ
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-102391
公開番号（公開出願番号）：特開平7-097448
出願日： 1994年05月17日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：

【要約】【目的】 電子回路等に平滑なアモルファスシリカをコーティングし、保護絶縁層を形成するに好適なセラミック前駆体を製造する方法を提供する。【構成】 共加水分解性のシランより可溶性の共加水分解物を製造する方法であって、HSi(OR)3 とSi(OR)4 の式で表されるシランの混合物であり、HSi(OR)3 対Si(OR)4 のモル比が3:1未満であり、各々のRは酸素原子によって珪素と結合したときに加水分解性の置換基を形成する独立した有機基であるシラン混合物と、さらに酸素含有極性有機溶媒、水、及び酸を含む混合物を形成し、次いで共加水分解物が生成するに充分な時間まで該混合物中のシランの加水分解を促進する。好ましくは、水は化学量論量の同等以下の量で存在し、酸はハロゲン化水素、カルボン酸、硝酸、硫酸から選択し、加水分解性置換基が1〜6の炭素原子を含むアルコキシである。

請求項（抜粋）：

共加水分解性のシランより可溶性の共加水分解物を製造する方法であって、HSi(OR)3 とSi(OR)4 の式で表されるシランの混合物であり、HSi(OR)3 対Si(OR)4 のモル比が3:1未満であって、各々のRは酸素原子によって珪素と結合したときに加水分解性の置換基を形成する独立した有機基であるシラン混合物と、酸素含有極性有機溶媒、水、及び酸を含む混合物を形成し、次いで共加水分解物が生成するに充分な時間まで該混合物中のシランの加水分解を促進する共加水分解物の製造方法。

IPC (4件)：

C08G 77/02 NTZ ,  B05D 7/24 302 ,  C01B 33/113 ,  C09D183/04 PMS