特許
J-GLOBAL ID：200903018821835331
誘導加熱式真空蒸発回収方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-244720
公開番号（公開出願番号）：特開平5-331564
出願日： 1991年08月29日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：
【要約】【目的】 被処理物を短時間に昇温し真空蒸発回収処理能力を向上すること。【構成】 真空炉7内に設けた容器10に被処理物9を投入して、コイル8に低周波電流を通電して被処理物9誘導加熱する。これにより、被処理物9の昇温速度を早くして不純物の真空蒸発を早期に行う。この真空蒸発した不純物を不純物処理装置13により凝集固化して連続的に回収する。これにより真空蒸発処理能力が向上される。
請求項（抜粋）：
被処理物を投入した炉内を減圧し、次に被処理物の周りに配設したコイルに低周波電流を流して被処理物を加熱昇温して被処理物に付着ないしは混合している不純物を真空蒸発させ、次にこの真空蒸発した不純物を不純物回収装置に導いて凝集固化し回収することを特徴とする誘導加熱式真空蒸発回収方法。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
