特許
J-GLOBAL ID：200903018830597400
X線発生装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-259056
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091096
出願日： 1998年09月14日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：
【要約】【課題】 LPXから放出された金属飛散粒子により、光学部材が汚染されて性能が低下することを抑制でき、長期間の使用が可能なLPXを提供する。【解決手段】 一定時間LPXを動作させた後に、又は可視光カットX線透過膜107の透過率をモニターして、その透過率が設定値を下回ったときに、LPXの動作を停止する。そして、可視光カットX線透過膜107を加熱し、所定の温度になった後、ガス導入口115から塩素ガスとSiCl4ガスの混合ガスを導入するとともに、真空ポンプ116により排気して、所定の圧力(例えば0.01〜0.1Torr)に維持する。その後、水銀ランプ109を点灯させ、またシャッター112を開けて、紫外光を可視光カットX線透過膜107上に照射する。これにより、可視光カットX線透過膜107上に付着した金属飛散粒子は、金属塩化物となり、ガスと共に真空容器100外に排出される。
請求項（抜粋）：
減圧された真空容器内の標的部材にレーザー光を照射してプラズマを形成し、当該プラズマからX線を取り出すX線発生装置であって、前記真空容器内、又は前記真空容器内に配置されている光学素子若しくは前記真空容器の一部を形成している光学素子の少なくとも1個の近傍に、塩素ガス又は塩素を含む気体の少なくとも一方を導入する機構を設けたことを特徴とするX線発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AB19
, 4C092AB21
, 4C092AC08
, 4C092BD19
