特許

J-GLOBAL ID：200903018834189650

基板処理装置

発明者： 後藤 寿一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-285451
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119874
出願日： 1998年10月07日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】 雰囲気温度より加温した薬液を用いた場合の基板処理を均一にする。【解決手段】 基板処理装置10は、液晶ディスプレーの基板12を保持する回転チャック14と、この基板12に室温より高温の薬液を吐出する薬液吐出ノズル16と、基板12を回転チャック14に移載する移載アーム27を備える。移載アーム27に保持した基板12を加温する熱板31を備え、基板12を、薬液と略同じ温度に均一に加熱する。温度低下によるエッチング処理のむらを防止し、均一にエッチング処理できる。

請求項（抜粋）：

基板を保持する保持手段と、前記保持手段を回転させる回転手段と、前記基板に雰囲気温度と異なる温度の薬液を吐出する薬液吐出手段と、前記基板を前記薬液の温度と略同じ温度に均一に温調する基板温調手段とを具備したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

C23F 1/08 ,  B05C 9/14 ,  B05D 3/00 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

C23F 1/08 ,  B05C 9/14 ,  B05D 3/00 D ,  H01L 21/306 R

Fターム (34件)：

4D075AC64 ,  4D075AC82 ,  4D075AC96 ,  4D075BB23X ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC21 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042BA19 ,  4F042CC09 ,  4F042DA09 ,  4F042DE01 ,  4F042DF09 ,  4F042DF29 ,  4F042DF32 ,  4F042EB09 ,  4F042EB17 ,  4F042EB21 ,  4F042EB29 ,  4F042EB30 ,  4K057WA01 ,  4K057WA11 ,  4K057WB06 ,  4K057WM04 ,  4K057WM11 ,  4K057WM17 ,  4K057WM20 ,  4K057WN01 ,  5F043AA02 ,  5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE22