レジスト組成物及びパターン形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-242033
公開番号（公開出願番号）：特開平9-090613
出願日： 1995年09月20日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：

【要約】【課題】感度、解像性ともに優れた、微細パターン形成用レジストの提供を目的とする。【解決手段】アルカリ可溶性の基材樹脂、光酸発生剤及び溶解抑止剤を組み合わせて有する化学増幅型レジスト組成物において、その溶解抑止剤の分子の母核を構成する環式もしくは非環式構造中に、併用される基材樹脂のアルカリ可溶部を該溶解抑止剤化合物の分子側に集合させるのに十分な水素結合を誘発可能な少なくとも1個の孤立電子対保有部、例えば、二重結合でつながれた酸素原子を含む基、特定のアルコキシ又はアルコキシカルボニル基及び(又は)ハロゲン原子を含ませる。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性の基材樹脂、光酸発生剤及び溶解抑止剤を組み合わせて有する化学増幅型レジスト組成物において、前記溶解抑止剤が、次式(I)により表される化合物:【化1】(上式において、Aは、溶解抑止剤分子の母核を構成する環式もしくは非環式構造を完成するのに必要な原子の集まりを表し、SIGは、それぞれ、同一もしくは異なっていてもよく、前記環式もしくは非環式構造Aに直接的にもしくは間接的に結合しかつ酸の作用によりその構造Aより分離可能な溶解抑止基を表し、そしてmは、前記構造Aに結合した溶解抑止基SIGの数であり、1もしくはそれ以上の整数を表す)であり、前記溶解抑止剤化合物の構造Aが、併用される基材樹脂のアルカリ可溶部を該溶解抑止剤化合物の分子側に集合させるのに十分な水素結合を誘発可能な少なくとも1個の孤立電子対保有部を有しており、そして前記電子対保有部が、(1)次式により表される、二重結合でつながれた酸素原子を含む基:【化2】(2)次式により表されるアルコキシ又はアルコキシカルボニル基:【化3】及び(3)塩素、フッ素、沃素及び臭素を含むハロゲン原子からなる群から選ばれた1員であることを特徴とする、化学増幅型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/032

FI (3件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/032

引用特許：

審査官引用 (13件)

放射線感応性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-202342 出願人：沖電気工業株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-054121 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-218703 出願人：日本電信電話株式会社

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