薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三反崎泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-043551
公開番号（公開出願番号）：特開2001-229508
出願日： 2000年02月16日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】磁極幅の寸法制御を可能とし、かつその形成に要する時間を短縮することができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】スパッタリングによって窒化鉄よりなる上部ポールチップ前駆層112aを形成したのち、上部ポールチップ前駆層112aの表面を研磨して平坦化する。平坦化された上部ポールチップ前駆層112aの上に、第1のマスク前駆層122aおよびフォトレジスト膜を順に形成する。フォトリソグラフィ処理によってフォトレジスト膜を選択的に露光してパターニングすることにより、開口部132xを有するフォトレジストパターン132aを形成する。上部ポールチップ前駆層112aの表面を研磨して平坦化することにより、その上層として形成される第1のマスク前駆層122aの表面もまた平坦となるので、露光時における下地からの反射光に起因するパターンくずれを抑制し、フォトレジストパターン132aの開口部132xを高精度に形成することができる。

請求項（抜粋）：

記録媒体に対向する記録媒体対向面側の一部に、ギャップ層を介して対向する2つの磁極を含む、互いに磁気的に連結された第1の磁性層および第2の磁性層と、2つの磁性層の間に絶縁層を介して配設された薄膜コイル部とを有すると共に、前記第1の磁性層が、前記記録媒体対向面からこの面と離れる方向に延在すると共に前記記録媒体の記録トラック幅を画定する第1の一定幅部分を含む第1の磁性層部分と、前記薄膜コイル部の配設領域を覆うと共に前記第1の磁性層部分に磁気的に連結された第2の磁性層部分とを有し、前記第2の磁性層が、前記第1の磁性層の前記第1の一定幅部分に対応する第2の一定幅部分を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記第1の磁性層を形成する工程および前記第2の磁性層を形成する工程のうちの少なくとも一方の工程が、磁性材層を成膜する工程と、前記磁性材層の表面を研磨して平坦化する工程と、平坦化された前記磁性材層の上に第1のマスクを形成する工程と、前記第1のマスクを用いて前記磁性材層を反応性イオンエッチングにより加工する加工工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

Fターム (6件)：

5D033AA02 , 5D033AA03 , 5D033DA02 , 5D033DA07 , 5D033DA08 , 5D033DA31

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