特許
J-GLOBAL ID：200903018850215431
分離膜の汚染分析方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森岡 博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-020311
公開番号（公開出願番号）：特開平11-197472
出願日： 1998年01月16日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：
【要約】【課題】 分離膜に吸着した汚染物質を検出し、汚染状態を管理する。【解決手段】 本発明は、分離膜の表面ζ電位を測定し、ついで該分離膜に処理液を供給して処理を行ったあと該分離膜の表面ζ電位を測定し、これら処理前後の電位を比較して表面ζ電位の変化により分離膜の汚染度合を検知する分離膜の汚染の分析方法である。
請求項（抜粋）：
分離膜の表面ζ電位を測定し、ついで該分離膜に処理液を供給して処理を行ったあと該分離膜の表面ζ電位を測定し、これら処理前後の電位を比較して表面ζ電位の変化により分離膜の汚染度合を検知する分離膜の汚染分析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
前のページに戻る
