特許

J-GLOBAL ID：200903018866507246

フォトニック結晶とその製造方法

発明者： 桑原 誠 ,  島田 周
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-247985
公開番号（公開出願番号）：特開2001-072414
出願日： 1999年09月01日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】 新規フォトニック結晶材料とその製造方法の提供。【構成】 基板上にフォトリソグラフィー法により作成したマイクロモールドに金属酸化物系高濃度金属アルコキシドの部分加水分解溶液を流し込み、エージングすることによりゲル化し、乾燥させてフォトニック結晶ゲル、例えば、粒径50nm以下、密度2.4g/cm3 以上、細孔径が実質的に10nm以下の擬立方晶のBaTiO3 粒子からなる透明乾燥ゲル、を製造する。さらに、フォトニック結晶ゲルを焼結してフォトニック結晶セラミックスを製造する。

請求項（抜粋）：

金属酸化物系高濃度金属アルコキシドの部分加水分解溶液をマイクロモールドに流し込みゲル化し乾燥させたフォトニック結晶ゲル。

IPC (5件)：

C01G 1/02 ,  C01G 23/00 ,  C04B 35/46 ,  G02B 1/02 ,  G02B 5/18

FI (5件)：

C01G 1/02 ,  C01G 23/00 C ,  C04B 35/46 Z ,  G02B 1/02 ,  G02B 5/18

Fターム (20件)：

2H049AA06 ,  2H049AA39 ,  2H049AA44 ,  2H049AA55 ,  2H049AA60 ,  2H049AA62 ,  4G031AA06 ,  4G031AA11 ,  4G031AA14 ,  4G031BA16 ,  4G031CA02 ,  4G031CA04 ,  4G031CA07 ,  4G031GA06 ,  4G047CA07 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03 ,  4G047CD05 ,  4G047KA05 ,  4G047KD02