特許

J-GLOBAL ID：200903018882338519

多孔質シリカゲル又は多孔質シリカガラスの製造法

発明者： 武井 康一 ,  林 房司 ,  町井 洋一 ,  嶋崎 俊勝
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-226273
公開番号（公開出願番号）：特開平5-058617
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：

【要約】【目的】化学反応の触媒、動植物細胞あるいは微生物等の細胞の担体に有用な、均一で比較的大きな球状のSiO2 の凝集粒子から成る多孔質シリカゲル又は多孔質シリカガラスを容易に製造する方法を提供する。【構成】85重量部のメチルアルコールと100重量部のポリメトキシシランを混合し、ポリ酢酸ビニル(重量平均分子量8,000)5重量部及びポリエチレングリコール(重量平均分子量20,000)5重量部を加え、0.02モル/1のコリン水溶液40重量部を加えて、ゾルを得る。これをテフロンでコートしたシャーレに入れ、密閉し、室温でゲル化させる。蓋に孔を開け、60°Cの恒温槽中で5日乾燥し、更に120°Cで1日乾燥して、多孔質シリカゲルを得る。得られた多孔質シリカゲルを空気中、1000°Cで焼成して、多孔質シリカガラスを得る。

請求項（抜粋）：

ポリ酢酸ビニル及びポリエチレングリコールもしくはポリエチレングリコール誘導体の共在下に、シリコンアルコキシドを溶媒中、塩基性触媒で加水分解してシリカゾルとし、これを加熱・乾燥することを特徴とする多孔質シリカゲルの製造法。

IPC (6件)：

C01B 33/152 ,  C03B 8/02 ,  C03B 19/12 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  C03C 11/00