特許

J-GLOBAL ID：200903018889495210

イオン注入装置

発明者： 糠山 正明 ,  安東 靖典 ,  立道 潤一
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-212216
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036737
出願日： 1992年07月16日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【目的】 ビームモニタ部で、所望のイオンによるイオンビーム電流を正確に計測することができるようにしたイオン注入装置を提供する。【構成】 このイオン注入装置は、イオン源2から引き出したイオンビーム6の一部を、ビームモニタ部12aで受けてそのイオンビーム電流を計測するようにしている。しかも、ビームモニタ部12aのスリット14とファラデーカップ16との間に、そこを通過するイオンビーム6を質量分析する質量分析器22を設けている。

請求項（抜粋）：

真空に排気される処理室内において、イオン源から引き出したイオンビームを質量分析することなく被処理物に照射して、当該被処理物にイオン注入を行う装置であって、イオン源から引き出したイオンビームの一部を、処理室のイオン源に対向する部分に連通するように設けられていてスリットおよびファラデーカップを有するビームモニタ部で受けてそのイオンビーム電流を計測するようにしたイオン注入装置において、前記ビームモニタ部のスリットとファラデーカップとの間に、そこを通過するイオンビームを質量分析する質量分析器を設けたことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (6件)：

H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  C23C 14/54 ,  G01T 1/29 ,  H01J 37/04 ,  H01L 21/265

引用特許：

審査官引用 (1件)

• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-227971   出願人：シヤープ株式会社