特許
J-GLOBAL ID：200903018893288548
堆積装置および堆積方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
芳村 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-297384
公開番号（公開出願番号）：特開2009-203546
出願日： 2008年11月20日
公開日（公表日）： 2009年09月10日
要約：
【課題】触媒反応に伴う化学エネルギーを利用することによって使用電力量を低減でき、酸化亜鉛等の金属酸化物の薄膜、窒化ガリウムや窒化アルミニウム等の金属窒化物の薄膜、および珪素窒化物の薄膜などを、低コストで効率良く基板に堆積させる堆積装置および堆積方法を提供する。【解決手段】第1の原料ガスを導入する導入部と、前記導入部から導入された前記第1の原料ガスから反応性ガスを生成する触媒を収容する触媒容器と、前記触媒容器から前記反応性ガスを噴出する反応性ガス噴出部であって、前記反応性ガスの噴出方向に沿って内径が小さくなる縮径部と、前記噴出方向に沿って内径が大きくなる拡径部と、を含む当該反応性ガス噴出部とを含む触媒反応装置;基板を支持する基板支持部;および、前記反応性ガス噴出部から噴出される前記反応性ガスと反応して前記基板に膜を堆積させる第2の原料ガスを供給する供給部;を備える堆積装置。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
第1の原料ガスを導入する導入部と、前記導入部から導入された前記第1の原料ガスから反応性ガスを生成する触媒を収容する触媒容器と、前記触媒容器から前記反応性ガスを噴出する反応性ガス噴出部とを含む触媒反応装置;
前記反応性ガス噴出部から噴出する前記反応性ガスの流通を許容する反応性ガス分離器;
基板を支持する基板支持部;および
前記反応性ガス分離器を通り抜けた前記反応性ガスと反応して前記基板に膜を堆積させる第2の原料ガスを供給する供給部;
を備える堆積装置。
IPC (4件)：
C23C 16/452
, B01J 23/42
, C01G 9/02
, H01L 21/205
C23C16/452
, B01J23/42 M
, C01G9/02
, H01L21/205
4G047AA02
, 4G047AB01
, 4G047AC03
, 4G047AD02
, 4G169AA01
, 4G169AA08
, 4G169BA01A
, 4G169BA01B
, 4G169BC75B
, 4G169CB07
, 4G169CC40
, 4G169DA05
, 4G169EA02X
, 4G169EA02Y
, 4G169EB18X
, 4G169EB18Y
, 4G169FB14
, 4G169FB30
, 4K030AA01
, 4K030AA11
, 4K030AA14
, 4K030AA17
, 4K030BA38
, 4K030BA42
, 4K030BA47
, 4K030BB02
, 4K030CA05
, 4K030EA01
, 4K030EA05
, 4K030FA10
, 4K030FA17
, 4K030KA08
, 4K030KA11
, 4K030KA12
, 4K030KA45
, 4K030LA12
, 5F045AA03
, 5F045AB22
, 5F045AC09
, 5F045AC11
, 5F045AD08
, 5F045AF09
, 5F045BB08
, 5F045DP03
, 5F045DQ10
, 5F045EE05
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)
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