特許

J-GLOBAL ID：200903018897098255

光ディスクパターン形成方法及び光ディスク

発明者： 竹内 弘司
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-182475
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045116
出願日： 1994年08月03日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】安定した、再現性の良い光ディスクパターンが得られる光ディスクパターン形成方法を提供する。【構成】本発明は、ガラス基板上にレジスト層を形成した光ディスク用原盤の該レジスト層にレーザ光を露光した後、現像処理を施して溝(グルーブ)及び/またはピットからなるパターンを形成する光ディスクパターン形成方法において、上記ガラス基板1上にレジスト塗布とプリベークをn(n≧2)回繰り返すことにより、レジストの露光感度を変化させた多層レジスト膜2,3を形成し、深さの異なる断面形状が台形のグルーブ6及び/またはピット5を形成する。【効果】レジストの露光感度を変化させた多層レジスト膜を形成しているので、レーザ光の露光面パワーを変えることにより深さの異なる断面形状が台形のグルーブとピットを形成することができ、安定した、再現性の良い光ディスクパターンが得られる。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上にレジスト層を形成した光ディスク用原盤の該レジスト層にレーザ光を露光した後、現像処理を施して溝(グルーブ)及び/またはピットからなるパターンを形成する光ディスクパターン形成方法において、上記ガラス基板上にレジスト塗布とプリベークをn(n≧2)回繰り返すことにより、レジストの露光感度を変化させた多層レジスト膜を形成し、深さの異なる断面形状が台形のグルーブ及び/またはピットを形成することを特徴とする光ディスクパターン形成方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/24 521 ,  G11B 7/24 561