特許
J-GLOBAL ID：200903018897431574

リフトオフ用感光性下地材組成物およびそれを用いたペーストパターンの形成方法

発明者：
帯谷 洋之

帯谷 洋之 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-100792
公開番号（公開出願番号）：特開平10-282683
出願日： 1997年04月04日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】レジストパターンの形成時やペースト組成物埋め込み時にレジストパターンの欠落が起りにくく、かつレジストパターンの剥離時にペーストパターンに欠けを生じさせることのないリフトオフ用感光性下地材組成物、およびこれを用いたペーストパターンの形成方法を提供する。【解決手段】下地材組成物がケン化度70〜99モル%の部分ケン化酢酸ビニル重合体を一般式(1)で表わされる化合物でアセタール化した変性部分ケン化酢酸ビニル重合体を含有するリフトオフ用感光性下地材組成物、および基材上にリフトオフ用感光性下地材組成物を塗布して下地層とし、その上に感光性樹脂層を積層したのち、活性光線を選択的に照射し、未照射部分を除去してレジストパターンを形成し、次いでペースト組成物層を設け、パターン化するペーストパターンの形成方法。
請求項（抜粋）：
リフトオフ法でペーストパターンを形成するための下地材組成物において、前記下地材組成物がケン化度70〜99モル%の部分ケン化酢酸ビニル重合体を一般式化1で表わされる化合物でアセタール化した変性部分ケン化酢酸ビニル重合体を含有することを特徴とするリフトオフ用感光性下地材組成物。【化1】(式中、R1は炭素数1〜5の側鎖にアルキル基を有してもよいアルキレン基、R2、R3は炭素数1〜3のアルキル基を表わし、nは0〜20の整数を示す。)
IPC (7件)：
G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/26 513 ,  H01J 11/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  H05K 3/02
FI (7件)：
G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/26 513 ,  H01J 11/02 B ,  H05K 3/02 A ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/306 N
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM