特許
J-GLOBAL ID:200903018909734209
プラズマの粒子解析方法及びプラズマの粒子解析プログラムを記録するコンピュータ読取可能な記録媒体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西村 征生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-136715
公開番号(公開出願番号):特開平11-329786
出願日: 1998年05月19日
公開日(公表日): 1999年11月30日
要約:
【要約】【課題】 解析精度を犠牲にすることなく、プラズマの粒子解析処理時間の短縮化を図る。【解決手段】 流体モデルを用いてプラズマ状態の全領域にわたり、プラズマ中の電子、イオン及び中性粒子の粒子密度の分布と、電位及び電子温度の分布を求め、得られた分布からプラズマ中の電界強度の分布及びイオン化率の分布を求め、電界強度の分布及びイオン化率の分布からプラズマ状態の全領域からイオンシース領域及びサブシース領域を抽出し、イオンシース領域及びサブシース領域でモンテカルロ法を用いて、電子の運動を解析すると共に、電子と電子、イオン及び中性粒子との反応定数を求める。
請求項(抜粋):
エッチングや成膜に用いるプラズマ状態を解析するプラズマの粒子解析方法であって、流体モデルを用いて前記プラズマ状態の全領域にわたり、前記プラズマ中の電子、イオン及び中性粒子の粒子密度の分布と、電位の分布及び電子温度の分布を求め、前記得られた分布から前記プラズマ中の電界強度の分布及びイオン化率の分布を求め、前記電界強度の分布及びイオン化率の分布に基づいて前記プラズマ状態の全領域からイオンシース領域及びサブシース領域を抽出し、前記イオンシース領域及び前記サブシース領域において、モンテカルロ法を用いて前記電子の運動を解析すると共に、前記電子と前記電子、イオン及び中性粒子との反応定数を求めることを特徴とするプラズマの粒子解析方法。
IPC (3件):
H05H 1/00
, G06F 17/00
, G06F 17/13
FI (3件):
H05H 1/00 A
, G06F 15/20 D
, G06F 15/328
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