特許
J-GLOBAL ID：200903018912076255
微細パターン形成用の原版
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-322106
公開番号（公開出願番号）：特開平6-175340
出願日： 1992年12月01日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：
【要約】【目的】 優れた耐久性を有し、被加工物に高い精度で繰り返し微細パターンを形成することのできる微細パターン形成用の原版を提供する。【構成】 少なくとも表面が導電性を示す基板表面に絶縁性のマスキング層を所定パターンで形成し、このマスキング層およびマスキング層非形成部分を覆うように剥離性樹脂層を形成して原版とする。
請求項（抜粋）：
少なくとも表面が導電性を示す基板と、該基板の表面に所定パターンで形成された絶縁性のマスキング層と、該マスキング層および前記基板の前記マスキング層非形成部分を覆うように形成された剥離性樹脂層とを備えることを特徴とする微細パターン形成用の原版。
引用特許：
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