荷電粒子ビーム描画装置における信号検出方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井島藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-060594
公開番号（公開出願番号）：特開平7-272994
出願日： 1994年03月30日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】【目的】スケーリングを行った場合におけるマーク位置検出などの精度を高め、その後の描画精度を向上させることができる荷電粒子ビーム描画装置における信号検出方法を実現する。【構成】コンピュータ11に、スケーリング値Sと電子ビームのサイズX2,Y2がセットされる。コンピュータ11は、偏向増幅器16,18の可変抵抗器22,23を制御し、データ転送回路13、ショット分割器14を介して偏向増幅器16に供給されるマーク検出用ビームサイズデータとして、X2/S,Y2/Sをセットする。この結果、データX2/S,Y2/Sは、偏向増幅器16を通過する際に、スケーリング値Sに応じて増幅率が制御されているので、成形偏向器5に供給される信号は、スケーリング値S成分がキャンセルされ、スケーリングをかけない状態におけるビームサイズ信号X2,Y2となる。

請求項（抜粋）：

第1のアパーチャの開口像を成形偏向器によって偏向して第2のアパーチャ上に結像し、第2のアパーチャの開口を透過した矩形断面の荷電粒子ビームを位置決め偏向器によって偏向して被描画材料上の所望位置に投射すると共に、スケーリングを成形偏向器に供給される偏向信号を増幅する偏向増幅器と位置決め偏向器に供給される偏向信号を増幅する偏向増幅器の増幅率を変えることによって行うようにした荷電粒子ビーム描画装置において、矩形断面の荷電粒子ビームをマーク部分などで走査し、この走査に基づいて得られた信号を検出し、検出信号を微分処理し、マーク位置や矩形ビームの断面形状などの検出を行う際、前記信号検出時に成形偏向器用の偏向増幅器に供給されるビームサイズに応じた信号に対してスケーリング値の逆数を掛けるようにしたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置における信号検出方法。

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