特許
J-GLOBAL ID：200903018925883249
局所断面観察試料の作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-134712
公開番号（公開出願番号）：特開平6-061320
出願日： 1991年06月06日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：
【要約】【目的】 集束イオンビーム発生装置による局所開孔断面を走査型電子顕微鏡を用いて、電子ビーム励起2次電子像を得る局所断面観察方法において、観察試料が絶縁物であってもチャージング現象が発生せず、鮮明な電子像を得るものである。【構成】 集束イオンビーム発生装置を用いて試料の特定所望箇所を開孔し、その断面を走査型電子顕微鏡を用いて局所断面観察を行うものであって、集束イオンビーム発生装置により試料の観察断面部の膜厚を照射電子ビームの一部が透過する程度に薄くするために開孔し、次にこの試料の所望観察断面の観察方向と反対側に集束イオンビーム発生装置・励起化学気相折出により導電性膜を埋め込むものである。
請求項（抜粋）：
所望観察断面に電子ビームを照射・走査して、その際に発生する2次電子を検出して電子ビーム励起2次電子像を得る局所断面観察方法において、試料の観察断面部の膜厚を照射電子ビームの一部が透過する程度に薄くする工程と、この試料の所望観察断面の観察方向と反対側に導電性膜を埋め込む工程とを有することを特徴とする局所断面観察試料の作成方法。
IPC (2件)：
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