特許
J-GLOBAL ID：200903018937014505
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-172276
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016985
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】 構造を簡素化して小型化を可能にする。【解決手段】 回転体24の外周の平面部241,242,243に基板保持体244,245,246が配設された第1の基板回転保持体20と第2の基板回転保持体20 ́との間に基板受渡部30が配設される。第1,第2の基板回転保持体20,20 ́の外周部には、基板保持体244,245,246に保持された基板に塗布液を供給して基板表面に塗布膜を形成する塗布液供給部40,40 ́と、基板保持体244,245,246に保持された基板の塗布膜を乾燥させる乾燥処理部50,50 ́とが配設される。基板受渡部30は、移載ハンド32と取外しハンド34とを備え、移載ハンド32が前工程から処理前の基板を受け取って各基板回転保持体20,20 ́に交互に移載し、取外しハンド34が処理後の基板を各基板回転保持体20,20 ́から交互に取り外して後工程に受け渡す。
請求項（抜粋）：
基板に対して複数の処理を順次行う基板処理装置において、軸心回りに回転自在に構成されるとともに、基板を保持するためのN個(N≧3)の基板保持部がその外周部において前記軸心回りに等角度間隔で配置されてなる第1,第2の基板回転保持手段と、前記第1,第2の基板回転保持手段を所定の回転角度で間欠的に回転駆動し、前記各基板回転保持手段の外周部に沿って設定された基板受渡位置及び最大(N-1)個の基板処理位置のいずれかの位置に各基板保持部を位置決めする回転駆動手段と、前記第1,第2の基板回転保持手段の基板受渡位置に配設され、前工程から順次受け取った処理前の基板を各基板回転保持手段に交互に移載すると共に、各基板回転保持手段に保持されている処理後の基板を各基板回転保持手段から交互に取り外して順次後工程に受け渡す基板受渡手段と、前記第1,第2の基板回転保持手段の基板処理位置にそれぞれ配設され、各基板処理位置で前記基板保持部に保持されている基板に対して処理を行う複数の処理手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/68 A
, H01L 21/30 564 C
, H01L 21/30 567
