特許
J-GLOBAL ID:200903018943581543

電解液の浄化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-284618
公開番号(公開出願番号):特開平10-110298
出願日: 1996年10月08日
公開日(公表日): 1998年04月28日
要約:
【要約】【課題】 銅メッキや銅箔製造に用いられる電解液において液中のチオ尿素系の添加剤及び/又はその分解物濃度を一定範囲に維持するための容易な技術を確立すること。【解決手段】 チオ尿素系の添加剤及び/又はその分解物を含む電解液中に金属銅を添加し、チオ尿素系の添加剤及び/又はその分解物を少なくとも部分的に除去することを特徴とする電解液の浄化方法を提供する。電解液の代表例は銅メッキ用及び銅箔製造用硫酸酸性硫酸銅溶液である。0.01〜100ppmのチオ尿素系の添加剤及び/又はその分解物を含む電解液1リットルに対して0.1g以上の銅粉または1g以上の銅箔等の金属銅が電解液に対して連続的に或いは間欠的に添加する。
請求項(抜粋):
チオ尿素系の添加剤及び/又はその分解物を含む電解液中に金属銅を添加し、チオ尿素系の添加剤及び/又はその分解物を少なくとも部分的に除去することを特徴とする電解液の浄化方法。

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