特許

J-GLOBAL ID：200903018953830371

露光パターンの評価方法、露光パターンの評価用マーク及び露光パターンの評価装置

発明者： 山田 智明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-089967
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270304
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】【課題】 ウェハ上に既に形成されている各層の影響をあまり受けることなく、露光パターン評価の信頼性が高い評価装置を提供する。【解決手段】 本発明の露光パターンの評価装置は、転写露光により形成したマーク15を評価するものである。評価マーク15を2次元像として撮像する手段(CCDカメラ21等)と、テンプレートの形状を入力する手段26と、評価マーク像とテンプレートとの相互相関関数のピーク値を演算する手段23を具備する。

請求項（抜粋）：

マスク上の評価マークのパターンを被露光面上に転写露光することにより形成した転写評価マークの露光パターンを評価する方法であって;上記転写評価マークを2次元像として撮像し、設計上の評価マークのパターンをテンプレートとし、転写評価マークの像とテンプレートとの相互相関関数のピーク値又は正規化相関関数のピーク値を求め、該ピーク値によって露光パターンの正確さを評価することを特徴とする露光パターンの評価方法。