特許

J-GLOBAL ID：200903018959655245

薄膜製造装置とその装置を用いた薄膜積層装置並びに薄膜製造方法

発明者： 川瀬 徳隆
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-390287
公開番号（公開出願番号）：特開2003-193224
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】 有機EL素子を応用したディスプレイ等の生産効率を向上させることができる薄膜製造装置を提供すること。【解決手段】 薄膜製造装置は、薄膜形成用材料を蒸発させる蒸発室と、基板を収容し蒸発室から蒸発する材料を受け入れて基板上に蒸着させる成膜室と、蒸発室と成膜室とを作動時にそれぞれ真空にするための真空ポンプと、ゲートバルブとを備え、成膜室と蒸発室はゲートバルブを介して遮断可能に連通されてなる。

請求項（抜粋）：

薄膜形成用材料を設置して蒸発させる蒸発室と、基板を収容し蒸発室から蒸発する材料を受け入れて基板上に蒸着させる成膜室と、蒸発室と成膜室とを作動時にそれぞれ真空にするための真空ポンプと、ゲートバルブとを備え、成膜室と蒸発室はゲートバルブを介して遮断可能に連通されてなる薄膜製造装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (3件)：

C23C 14/24 V ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (13件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029CA01 ,  4K029DA02 ,  4K029DA12 ,  4K029DB06 ,  4K029HA01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA05