特許
J-GLOBAL ID:200903018978030795
近臨界および超臨界非溶媒を用いる粒子析出と被覆方法と装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 望稔 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-531174
公開番号(公開出願番号):特表2002-504011
出願日: 1997年02月28日
公開日(公表日): 2002年02月05日
要約:
【要約】近または超臨界流体条件を用いる、粒子析出と被覆のための改良方法と装置(110)。連続相分散媒と少なくとも1種の析出可能物質を含む分散流体(128)が超臨界流体(SCF)と接触される。その結果、集中した高周波数の反溶媒音波が発生し、分散液を非常に小さい液滴に分散する。液滴と反溶媒の間の増大した物質移動速度が、非常に小さい、0.1〜10μm級の粒子の析出の原因になる。被覆法においては、コア粒子の乱流が、SCF反溶媒を用いて、密閉域で発生する。コア粒子がその中で、近臨界流体条件で、分散媒を含む分散流体と析出可能物質とともに接触される。反溶媒が分散媒を排除し、物質が流動化粒子上に析出する。
請求項(抜粋):
小粒子の沈降方法において、 少なくとも1つの沈降させるべき物質が分散剤中に分散している分散剤の連続相を含む分散流体を用意すること;および 該分散を反溶剤の超臨界もしくは近傍の条件で析出域中にて反溶剤と接触させて該物質を沈降させて小粒子を形成させること、 該反溶剤は、該分散剤に混和性があり、該物質は実質上反溶剤に不溶であること、 該接触工程は下記工程を含むこと; 該分散流体を第1通路および第1通路出口を通して、該反溶剤を容れた該析出域に通すこと; エネルギー付与ガス流を第2通路沿いに第1通路出口の基部の第2通路出口に通すこと; 該第2出口を通る該エネルギー付与ガス流の通過が、該第1通路出口近傍で、該分散流体を極小液滴に分散させるための該エネルギー付与ガスの高周波音波を発生させること;および、 該析出域中の該反溶剤に該分散剤を減少させて該物質の小粒子の沈降をおこさせること、である工程を含む方法。
IPC (3件):
B01J 19/00
, B01J 2/04
, B01J 3/00
FI (3件):
B01J 19/00 N
, B01J 2/04
, B01J 3/00 A
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