特許
J-GLOBAL ID：200903018979053470
回路パターン露光用光学系
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-090232
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270351
出願日： 1997年03月25日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】【課題】 狭帯化した短波長紫外レーザ光、特にArFエキシマレーザを照明した場合においても、耐久性や光透過性等の品質を劣化させる事なく、光学系全体として低コストで製造容易に構成することのできる露光光学系を提供する事を目的とする。【解決手段】 約190〜250nmの短波長エキシマレーザにより照明された回路パターンを被露光体上に露光せしめる回路パターン露光用光学系において、前記光学系を構成するレンズ、ミラー、プリズム等の光学体を適切な濃度の水素を含有する合成石英ガラス製光学体と単結晶蛍石の組み合わせで構成するとともに、該光学体を透過するArFエキシマレーザ光の1パルス当たりのエネルギー密度をε(mJ/cm2 )に基づいて水素分子濃度、屈折率の均質性、複屈折量を異ならせた複数種の合成石英ガラス光学体で構成した事にある。
請求項（抜粋）：
約190〜250nmの短波長エキシマレーザにより照明された回路パターンを被露光体上に露光せしめる回路パターン露光用光学系において、前記光学系を構成するレンズ、ミラー、プリズム等の光学体を水素ドープされた合成石英ガラス製光学体と単結晶蛍石の組み合わせで構成するとともに、該光学体を透過するArFエキシマレーザ光の1パルス当たりのエネルギー密度をε(mJ/cm2 )として、ε≦0.1mJ/cm2 の範囲に位置する光学体においては、水素分子濃度CH2分子/cm3 が1×1017≦CH2≦5×1018、屈折率の均質性Δnが2×10-6/1cm以下で且つ複屈折量が1nm/cm以下で更にArFレーザの波長である193nmにおける透過率が99.5%以上である第1の合成石英ガラス光学体で、ε:0.1≦ε≦0.4mJ/cm2 の範囲に位置する光学体においては、水素分子濃度CH2を5×1017≦CH2≦5×1018分子/cm3 、屈折率の均質性Δnが2×10-6/1cm以下で且つ複屈折量が1nm/cm以下で更にArFレーザの波長である193nmにおける透過率が99.5%以上である第2の合成石英ガラス光学体で、ε≧0.4mJ/cm2 の範囲に位置する光学体においては、屈折率分布(Δn)は≦3×10-6、複屈折量は≦2.0nm/cm、ArFレーザの波長である193nmにおける透過率が99.8%以上に維持してなる単結晶蛍石光学体を用いて構成し、光学系全体としての平均透過率、略98.0%/cm以上を達成させた事を特徴とする回路パターン露光用光学系。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G02B 1/02
, G02B 13/24
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 D
, G02B 1/02
, G02B 13/24
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 B
