特許

J-GLOBAL ID：200903018983457470

化学増幅系レジスト組成物

発明者： 並木 崇久 ,  渡部 慶二 ,  矢野 映
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 青木 朗 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-203610
公開番号（公開出願番号）：特開平6-051515
出願日： 1992年07月30日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：

【要約】【目的】 化学増幅系レジスト組成物において、残存溶剤を完全に除去し高解像度のレジストパターンを得ることを目的とする。【構成】 化学増幅系レジスト組成物において、基材樹脂100重量部、露光により酸を発生する酸発生剤1〜20重量部および100°C〜150°Cの範囲内の沸点を有し、かつ室温で液体の有機溶剤400〜1000重量部を含んでなるように構成する。このようなレジスト組成物を被加工物上に塗布してレジスト膜を形成し、該レジスト膜を50°C以上、120°C以下の温度でベーキングして溶剤を除去し、選択露光し、有機溶剤で現像するように構成する。

請求項（抜粋）：

基材樹脂100重量部、露光により酸を発生する酸発生剤1〜20重量部および100°C〜150°Cの範囲内の沸点を有し、かつ室温で液体の有機溶剤400〜1000重量部を含んでなる化学増幅系レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027