特許
J-GLOBAL ID：200903018990345203
像投影方法及びそれを用いた露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-168709
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142338
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 パターンを最適な偏光状態の光束を用いて高解像度で投影するようにした像投影方法及びそれを用いた露光装置を得ること。【構成】 照明系からの光束でパターンを照明し、該パターンから生じる回折光を利用して投影光学系により該パターンを所定面上に投影する際、前記投影光学系の瞳面で前記回折光の偏光状態を制御し、該パターンを投影していること。
請求項（抜粋）：
照明系からの光束でパターンを照明し、該パターンから生じる回折光を利用して投影光学系により該パターンを所定面上に投影する際、該回折光の偏光状態を制御して該パターンを投影していることを特徴とする像投影方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02B 27/28
, G03F 7/20 521
