特許
J-GLOBAL ID:200903018997470380

特にEUV放射及び/又は軟X線放射を発生する方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 津軽 進 ,  宮崎 昭彦 ,  笛田 秀仙
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-544653
公開番号(公開出願番号):特表2007-525799
出願日: 2004年12月13日
公開日(公表日): 2007年09月06日
要約:
プラズマ(26)により放出される特にEUV放射(12)及び/又は軟X線放射(12a)を発生する方法が記載されている。プラズマ(26)は放電空間(14)内の動作ガス(22)により形成され、該放電空間は少なくとも1つの放射放出ウィンドウ(16)と、少なくとも1つのアノード(18)及び少なくとも1つのカソード(20)を備える電極システムとを有する。この電極システムは、プラズマ(26)に電気エネルギを、放電空間(14)に導入された電荷キャリア(24)により伝達する。高繰り返し周波数でのプラズマ(26)の信頼性のある点弧を得るために、少なくとも1つの放射源(28)により発生される放射(30)が放電空間(14)に導入されて、電荷キャリア(24)を利用可能にすることが推奨される。
請求項(抜粋):
放電空間に動作ガスにより形成されるプラズマにより放出される特にEUV放射及び/又は軟X線放射を発生する方法であって、前記空間が少なくとも放射放出ウィンドウと、少なくとも1つのアノード及び少なくとも1つのカソードを備える電極システムとを有し、該電極システムが前記放電空間に導入された電荷キャリアにより前記プラズマに電気エネルギを伝達するような方法において、 前記電荷キャリアを利用可能にするために、前記放電空間に少なくとも1つの放射源により発生される少なくとも1つの放射が導入されることを特徴とする方法。
IPC (2件):
H05G 2/00 ,  G21K 5/08
FI (2件):
H05G1/00 K ,  G21K5/08 X
Fターム (3件):
4C092AA06 ,  4C092AB19 ,  4C092AC08
引用特許:
審査官引用 (6件)
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