特許
J-GLOBAL ID：200903019001320708
遺跡・遺構の整備復元・保存方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-042657
公開番号（公開出願番号）：特開平5-057707
出願日： 1991年02月14日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】遺跡・遺構の土壌層を下部より1〜50cm毎にn層に分けて実測図に従って復元造成し、第1〜(n-1)層表面にポリシロキサン-ポリオキシアルキレンブロック共重合体(PPBC)溶液を散布し、第n層(最上層)にポリアルキレングリコール付加シリコーン化合物(PGS)またはこれとシリコーン系硬化性組成物とを散布する。【効果】PPBCが遺跡・遺構の色彩変化および構造崩壊を防止し、PGSが人体に無害で、遺跡・遺構表面のカビ・蘚苔類の発生を防止する。さらにPGSと保護膜形成剤のシリコーン系硬化性組成物の併用により、PGSのカビ・蘚苔類発生効果が長期間持続し、遺跡・遺構表面が物理的・化学的作用から保護され、しかも保護膜による損傷が発生しない。
請求項（抜粋）：
劣化した遺跡・遺構を実測図に従って整備復元し、さらにそのままの状態で保存する方法において、遺跡・遺構を構成する土壌層等を下部より、最初の層を1〜50cmの厚さに実測図に従って復元造成し、その表面にポリシロキサン-ポリオキシアルキレンブロック共重合体の溶液を均一に散布し、さらにその上に上記と同様な作業を遺跡・遺構の原形の最上層から1〜50cm下まで繰り返し、その上に厚さ1〜50cmの土壌最上層を復元造成し、その表面にポリアルキレングリコール付加シリコーン化合物の溶液を均一に散布することを特徴とする遺跡・遺構の整備復元・保存方法。
IPC (3件)：
B27K 3/34
, C07F 7/08
, C08L 83/12 LRR
