特許

J-GLOBAL ID：200903019014819159

基板保持装置及び基板処理装置

発明者： 青木 薫 ,  小倉 鉄也
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-015214
公開番号（公開出願番号）：特開2001-210702
出願日： 2000年01月25日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】 装置の小型化を図ることが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】 低温端と高温端、及び低温端と高温端とを結ぶガス流路が画定された蓄冷器のガス流路内に、内部を流れる冷媒ガスと熱交換を行う蓄冷材が充填されている。基板保持台が、蓄冷器の低温端に結合している。基板保持台は、蓄冷器内のガス流路に連通した平板状の空洞を内部に有する。低温端と高温端、及び該低温端と高温端とを結ぶ内部空洞が画定されたパルスチューブの低温端が基板保持台に結合している。パルスチューブと基板保持台との結合箇所が、蓄冷器と基板保持台との結合箇所を挟むか、もしくは取り囲むように配置されている。パルスチューブの各々の内部空洞が平板状の空洞に連通している。

請求項（抜粋）：

低温端と高温端、及び該低温端と高温端とを結ぶガス流路が画定され、該ガス流路内に、内部を流れる冷媒ガスと熱交換を行う蓄冷材が充填された蓄冷器と、前記蓄冷器の低温端に結合し、該蓄冷器内のガス流路に連通した平板状の空洞を内部に有する基板保持台と、低温端と高温端、及び該低温端と高温端とを結ぶ内部空洞が画定され、低温端が前記基板保持台に結合した複数のパルスチューブであって、該パルスチューブと基板保持台との結合箇所が、前記蓄冷器と基板保持台との結合箇所を挟むか、もしくは取り囲むように配置され、該パルスチューブの各々の内部空洞が前記平板状の空洞に連通している前記パルスチューブとを有する基板保持装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  G01R 31/26 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

H01L 21/68 N ,  G01R 31/26 H ,  H01L 21/66 B

Fターム (15件)：

2G003AA10 ,  2G003AD01 ,  2G003AD04 ,  2G003AG16 ,  4M106AA01 ,  4M106BA01 ,  4M106CA31 ,  4M106CA62 ,  4M106DD22 ,  4M106DD30 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA39 ,  5F031MA33 ,  5F031PA18